NIOB-SPUTTERTARGETS

Haohai ist ein professioneller Hersteller von Niob Sputtertargets mit verschiedenen Formen und Reinheit, die hauptsächlich auf halbleitende, Mikro-Elektronik Industrie, großflächige Glasbeschichtung und optischen Industrie angewendet werden. Durch spezielle Umformprozesse verwendeten wir, unsere Sputtertargets Niob besitzen höhere Dichte, feine Körnungen sowie hohe Reinheit, Infolgedessen können Sie profitieren von einem schnelleren Prozess durch Sputtern Geschwindigkeiten und sehr homogene Niob-Schichten für Dünnschicht-Anwendungen erhalten.

Haohai Niob Sputtertargets gehören monolithische drehbaren Sputtertargets Niob, planar Sputtertargets Niob und Niob kathodischen Ziele.

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Niob monolithischen zylindrischen (rotary, drehbare) Sputtertargets

Fertigungsprogramm

OD (mm)	ID (mm)	Länge (mm)	Custom Made
50 - 300	30 - 280	100 - 4000

Spezifikation

Zusammensetzung	NB
Reinheit	3N (99,9 %), 3.5N (99,95 %), 4N (99,99 %)
Dichte	8,58 g/cm3
Korngrößen	Andlt; 80 µm oder auf Anfrage
Fertigungsprozesse	Elektronenstrahl (EB) Melting,Schmieden, Extrudieren, Bearbeitung
Form	Gerade, Hundeknochen
Anschlussarten	SCI, SRF, DSF, RFF, WFF,VA, GPI endet Fixierung, spiralförmige Rille, Custom Made
Oberfläche	RA 1.6 Mikrometer oder auf Anfrage

Andere Spezifikation

✦Dampf, entfettet und entmagnetisiert nach der abschließenden Bearbeitung

✦Zeichnung Anforderungen erfüllt ID muss GESCHLIFFEN und OD BODEN nach rohen Rohr hergestellt wird, um die ID zu OD Rundlauf zu gewährleisten.

✦Hohes Vakuum eng, Leckrate an jedem beliebigen Ort nicht zu überschreiten 1 x 10^-8STD CC/SEK.

✦In Kunststoff versiegelt, eingehüllt in Schaum zu schützen und enden gekappt Oberflächen zum Schutz der Abdichtung

Normale Größen

Niob-Rotary Sputtertargets

Normale Größen

55mm ID X 70 OD mm X 1334 mm lang 80mm ID x 100mm OD x lang 125mm ID X 153 OD mm X 576 mm lang 125mm ID X 153 OD mm X 800 mm lang 125mm ID X 153 OD mm X 895 mm lang 125mm ID X 155 OD mm X 895 mm lang 125mm ID X 153 OD mm X 1172 mm lang 125mm ID X 153 OD mm X 1676 mm lang 125mm ID X 153 OD mm X 1940 mm lang 125mm ID X 153 OD mm X 1994 mm lang 125mm ID X 153 OD mm X 2420 mm lang 125mm ID X 153 OD mm X 3191 mm lang 125mm ID X 153 OD mm X 3582 mm lang 125mm ID x 153mm OD x lang 125mm ID X 180 OD mm X 624 mm lang 194mm ID X 219 OD mm X 2301 mm lang

Haohai zylindrische Sputtertargets bieten gegenüber planar Konfigurationen:

✦Größere Erosion Zonen, die 2-bis 2,5-fache der stoffliche Verwertung zur Verfügung zu stellen.

✦Längere Lebensdauer der Ziel, das reduziert die Häufigkeit von Ausfallzeiten für Wartung Changeouts und Kammer.

✦Maßanfertigung in monolithischen, segmentierte oder thermischer Spray-Formaten.

✦End-Features, die Präzision maschinell bearbeitet für individuelle Kathode Systementwürfe sind.

✦Reduzieren Sie die Cost of Ownership für großflächige Veredelungsstufen.

✦Vielzahl der Materialien einschließlich.

✦Optimale Korngröße und einheitliche Mikrostruktur versichern konsequente Prozess-Performance durch vollständige Ende des Lebens.

✦Vollständige Homogenität und hohe Reinheitsgrade produzieren einheitliche Berichterstattung.

✦In der Lage, Materialien zu jeder Größe-Operation von Randamp liefern; D zur Serienfertigung.

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Niob Planar (Rechteck, Rundschreiben) Sputtertargets

Fertigungsprogramm

Rechteck	Länge (mm)	Breite (mm)	Dicke (mm)	Custom Made
	10 - 2000	10 - 800	1.0 - 25
Kreisförmige	Durchmesser (mm)		Dicke (mm)
	10 - 1000		1.0 - 50

Spezifikation

Zusammensetzung	NB
Reinheit	3N (99,9 %), 3.5N (99,95 %), 4N (99,99 %)
Dichte	8,58 g/cm3
Korngrößen	Andlt; 80 µm oder auf Anfrage
Fertigungsprozesse	Elektronenstrahl(EB) Schmelzen, Schmieden, Walzen, Bearbeitung
Form	Platte, Scheibe, Schritt, nach Maß
Typen	Monolithische, mehreren Segmenten Ziel-
Oberfläche	RA 1.6 Mikrometer oder auf Anfrage

Andere Spezifikationen

Wir sorgen dafür, die gleiche Faserrichtung in mehreren Segmenten Bauteile.

Ebenheit, saubere Oberfläche, poliert, frei von Riss, Öl, Punkt.

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Niob Arc Kathoden

Wir liefern Dreh- und planare Arc Kathoden sowie Dreh- und planare Sputtertargets

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Für unsere Sputtertargets Niob und Arc Kathoden

Toleranz

Nach Zeichnungen oder Anfrage.

Verunreinigungen Inhalt (Gew.-%)

Anwendung

✦Großflächige Glasbeschichtung

✦Display-Industrie