SILIZIUM-OXIDE(SiO2)-SPUTTERTARGETS
Haohai Titan ist spezialisiert auf Herstellung von hohen PuritySilicon Oxid Sputtern Targetswith die höchste mögliche Densityand kleinste möglich durchschnittliche Korn für den Einsatz in Halbleiter-, chemical Vapor Deposition (CVD) und physische Vapor Deposition (PVD) Display und optische Anwendungen Größen.
HaohaiSiliciumoxid (SiO2)Sputtertargets gehörenSiliciumoxid (SiO2)Sputtertargets Rotary undSiliciumoxid (SiO2)planare Sputtertargets.
Silizium-Oxid (SiO2) drehbar (Rotary, zylindrische) Sputtertargets
Fertigungsprogramm
OD (mm) |
ID (mm) |
Länge (mm) |
Custom Made |
80 - 160 |
60 - 125 |
100 - 4000 |
Spezifikation
Zusammensetzung |
SiO2 |
Reinheit |
3N (99,9 %), 3N5 (99,95 %), 4N (99,99 %), 4N5 (99,995 %) |
Dichte |
2,3 g/cm3 |
Korngrößen |
Andlt; 150 µm oder auf Anfrage |
Fertigungsprozesse |
Plasma Spritzen, Bearbeitung, kleben |
Form |
Gerade, Hundeknochen |
Anschlussarten |
SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, GPI endet Fixierung, spiralförmige Rille, Custom Made für SS sichern Rohr |
Oberfläche |
RA 1.6 Mikrometer |
Andere Spezifikation
✦Dampf entfettet und nach der abschließenden Bearbeitung entmagnetisiert.
✦Zeichnung Anforderungen erfüllt ID muss GESCHLIFFEN und OD BODEN nach rohen Rohr hergestellt wird, um die ID zu OD Rundlauf zu gewährleisten.
✦Hohes Vakuum eng, Leckrate an jedem beliebigen Ort nicht zu überschreiten 1 x 10-8STD CC/SEK.
✦In Kunststoff versiegelt, eingehüllt in Schaum zu schützen und enden gekappt Oberflächen Versiegelung zu schützen.
Silizium-Oxid (SiO2) planare (Rechteck, Rundschreiben) Ziel-Sputtern
Fertigungsprogramm
Rechteck |
Länge (mm) |
Breite (mm) |
Dicke (mm) |
Custom Made |
10 - 2000 |
10 - 300 |
5.0 - 40 |
||
Kreisförmige |
Durchmesser (mm) |
Dicke (mm) |
||
5.0 - 200 |
5.0 - 20 |
Spezifikation
Zusammensetzung |
SiO2 |
Reinheit |
3N (99,9 %), 3N5 (99,95 %),4N (99,99 %), 4N5 (99,995 %) |
Dichte |
2,3 g/cm3 |
Korngrößen |
Andlt; 150 µm oder auf Anfrage |
Fertigungsprozesse |
Bearbeitung, kleben |
Form |
Mehreren Segmenten Ziel, Verklebung auf Cu sichern Platte |
Typen |
Platte, Scheibe, Schritt nach unten verschrauben, Threading, Custom Made |
Oberfläche |
RA 1.6 Mikrometer |
Andere Spezifikationen
Ebenheit, saubere glatte Oberfläche, poliert, frei von Riss, Öl, Punkt.
Ausgezeichnete Kommunikationselektronik, kleinen linearen Ausdehnungskoeffizienten und gute Hitzebeständigkeit.
Für Haohai-Siliciumoxid (SiO2) Sputtertargets
Toleranz
ACC, Zeichnungen oder auf Anfrage.
Anwendung
✦ Optische Beschichtung
✦Solar Andamp; Photovoltaik-Beschichtung
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