NiCr Sputtern Ziel, qualitativ hochwertige, monolithisch, Rotary, geradeaus, Dogbone, Planar, Kathod

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Letztes Update: 2017-09-17 02:16
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Produktdetails

NICKEL CHROM (NiCr) SPUTTERTARGETS

Haohai ist spezialisiert in der Herstellung von hoch PurityNickel Sputtering Chrom (NiCr) Targetswith die höchste mögliche Densityand kleinste möglich durchschnittliche Getreide für den Einsatz in Halbleiter-, chemical Vapor Deposition (CVD) und physische Vapor Deposition (PVD) Display, Glasbeschichtung und optische Anwendungen Größen.

Haohai Nickel Chrom (NiCr) Sputtern Zielen gehören rotary Sputtertargets Nickel Chrom (NiCr), Nickel-Chrom (NiCr) planare Sputtertargets und t Nickel Chrom (NiCr) kathodischen Ziele.



Nickel Chrom (NiCr) drehbar (Rotary, zylindrische) Sputtertargets

Fertigungsprogramm

OD (mm)

ID (mm)

Länge (mm)

Custom Made

80 - 160

60 - 125

100 - 3000

Spezifikation

Komposition [Gew.-%]

80/20, 90/10

Reinheit

3N (99,9 %), 3N5 (99,95 %), 4N (99,99 %)

Dichte

8,5-8,7 g/cm3

Korngrößen

Andlt; 100 Mikron oder auf Anfrage

Fertigungsprozesse

HÜFTE, kleben Plasma Spritzen, Bearbeitung,

Form

Gerade, Hundeknochen

Anschlussarten

SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, GPI endet Fixierung, spiralförmige Rille,

Custom Made für SS sichern Rohr

Oberfläche

RA 1.6 Mikrometer

Andere Spezifikation

Dampf entfettet und nach der abschließenden Bearbeitung entmagnetisiert.

Zeichnung Anforderungen erfüllt ID muss GESCHLIFFEN und OD BODEN nach rohen Rohr hergestellt wird, um die ID zu OD Rundlauf zu gewährleisten.

Hohes Vakuum eng, Leckrate an jedem beliebigen Ort nicht zu überschreiten 1 x 10-8STD CC/SEK.

In Kunststoff versiegelt, eingehüllt in Schaum zu schützen und enden gekappt Oberflächen Versiegelung zu schützen.


Nickel-Chrom (NiCr) planare (Pectangle, Pircular) Pputtering Rauhbewurf

Fertigungsprogramm

Rechteck

Länge (mm)

Breite (mm)

Dicke (mm)

Custom Made

10 - 2000

10 - 400

5.0 - 40

Kreisförmige

Durchmesser (mm)


Dicke (mm)

5.0 - 500


5.0 - 40


Spezifikation

Komposition [Gew.-%]

80/20, 90/10

Reinheit

3N (99.9%),3N5 (99,95 %), 4N (99,99 %)

Dichte

8,5 - 8,7 g/cm3

Korngrößen

Andlt; 100 Mikron oder auf Anfrage

Fertigungsprozesse

HÜFTE, Zerspanung, kleben

Form

Monolithische,Mehreren Segmenten Ziel, kleben

Typen

Platte, Scheibe, Schritt nach unten verschrauben, Threading, Custom Made

Oberfläche

RA 1.6 Mikrometer

Andere Spezifikationen

Ebenheit, saubere glatte Oberfläche, poliert, frei von Riss, Öl, Punkt.

Ausgezeichnete Kommunikationselektronik, kleinen linearen Ausdehnungskoeffizienten und gute Hitzebeständigkeit.




Nickel-Chrom (NiCr) Arc Kathoden

Wir liefern Dreh- und planare Arc Kathoden sowie Dreh- und planare Sputtertargets


Für unser Nickel Chrom (NiCr) Ziele und Arc Kathoden-Sputtern

Toleranz

ACC, Zeichnungen oder auf Anfrage.

Haohai bietet Nickel Chrom (NiCr) Ziele und Arc Kathoden ständig Sputtern und verbessert die folgenden Material und Schichteigenschaften:

Feine Körnung und homogene Mikrostruktur

Hohe Duktilität

Herausragende Materialhärte

Ausgezeichnete Beständigkeit gegen oxidation

Reibungskoeffizient

Temperaturbeständigkeit

Thermische Leitfähigkeit

Hohe elektrische Leitfähigkeit

Farb-Effekte

Antibakterielle Eigenschaften

Verunreinigungen Inhalt [ppm]

Nickel/Chrom Inhalt [Gew.-%]


80/20

Reinheit [%]


99.95

Metallische Verunreinigungen [μg/g]

NI

Matrix

CR

20,3 % der wt

Fe

50

Al

50

Si

100

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