Original
TITAN-OXID (TiOx) SPUTTERTARGETS
Haohai Titan-Oxid (TiOx) Sputtern Ziel mit perfekte Dichte, hohe Reinheit und sehr feinkörnige Mikrostruktur, glatte Oberfläche, keine Risse, keine Absplitterungen, keine ausländischen Einschlüsse und Verunreinigungen, ausgiebig in optischem Glas Entspiegelung Dünnschicht und großflächige Glasbeschichtung (Low-E) in der architektonischen Glasindustrie Herstellung eingesetzt.
HaohaiTitanoxid (TiOx)Sputtertargets gehörenTitanoxid (TiOx)rotierende Sputtertargets.
Titan-Oxid (TiOx) drehbar (Rotary, zylindrische) Sputtertargets
Fertigungsprogramm
OD (mm) |
ID (mm) |
Länge (mm) |
Custom Made |
80 - 160 |
60 - 125 |
100 - 4000 |
Spezifikation
Zusammensetzung |
TiOx |
Reinheit |
99.6%andgt; |
Dichte |
4,0 g/cm3 |
Korngrößen |
Andlt; 200 µm oder auf Anfrage |
Fertigungsprozesse |
Plasma Spritzen, Bearbeitung |
Form |
Gerade, Hundeknochen |
Anschlussarten |
SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, GPI endet Fixierung, spiralförmige Rille, Custom Made für SS sichern Rohr |
Oberfläche |
RA 1.6 Mikrometer |
Andere Spezifikation
✦Dampf entfettet und nach der abschließenden Bearbeitung entmagnetisiert.
✦Zeichnung Anforderungen erfüllt ID muss GESCHLIFFEN und OD BODEN nach rohen Rohr hergestellt wird, um die ID zu OD Rundlauf zu gewährleisten.
✦Hohes Vakuum eng, Leckrate an jedem beliebigen Ort nicht zu überschreiten 1 x 10-8STD CC/SEK.
✦In Kunststoff versiegelt, eingehüllt in Schaum zu schützen und enden gekappt Oberflächen Versiegelung zu schützen.
Für unsere Titanoxid (TiOx) Rotary Sputtertargets
Toleranz
ACC, Zeichnungen oder auf Anfrage.
Verunreinigungen Inhalt [Gew.-%]
Titan-Oxid Inhalt [Gew.-%] |
TiOx (Xandlt; 2) |
|
Reinheit [%] |
99.6andgt; |
|
Verunreinigungen [ppm] |
Al2O3 |
0.03 |
CaO |
0.03 |
|
Cr2O3 |
0.09 |
|
Fe2O3 |
0.1 |
|
MoO3 |
003 |
|
NbO |
0.03 |
|
P2O5 |
0.01 |
|
SiO2 |
0.06 |
|
ZrO2 |
0.02 |
|
Widerstand [ohm.cm] 20℃ |
Andlt; 0,1 |
|
Garantiert Dichte [g/cm3] |
4.0 |
|
Korngröße [μm] |
200 |
Anwendung
✦Großflächige Glasbeschichtung
✦Display-Industrie
✦ Optische Beschichtung
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